北儒精密

公司簡介

成立于：2005年5月
董事長：曾盛烘先生
資本額：新臺幣12.65億元
員工總人數：250人
廠房：43,000 平方米
位置：臺南科學園區(qū)內
全臺最大光電薄膜制程設備系統(tǒng)廠
提供綠能產業(yè)整廠整合性設備與制程技術輸出

 公司沿革

1995 – 在新竹成立北儒科技與工研院光電所合作并制作真空鍍膜設備
1996 – 與和立聯(lián)合科技(股)公司及各知名大學策略合作
1999 – 遷廠至臺南
     – 與南科和立聯(lián)合及中華聯(lián)合合作生產真空鍍膜設備
2003 – 制作 BPS 3.5代 AR1200 系列真空腔體
2004 – 擴大遷廠至臺南安定鄉(xiāng)租賃廠房
2005 – 南科申請通過，5月1日公司正式成立，7月20日核準進駐南科
2006 – 3月1日于南科舉行新廠動土儀式
     – BSC Solar TCO Sputtering Systems for Thin Film a-SiPV application交機完成(已量產)
2007 – 2月8日 新廠正式啟用
     – 順利通過ISO 9001:2008品質系統(tǒng)認證
     – 獲得太陽能周邊鍍膜系統(tǒng)組件、腔體、觸控面板大面尺寸連續(xù)濺鍍設備代工等訂單
     – 富士康集團-群創(chuàng)電容式Touch Panel 5代PVD設備ITO線與金屬線驗收交機
2008 – TFT 8 代以上大型腔體暨OERLIKON PECVD腔體認證成功
     – 富士康集團正達光電Touch Panel7.5代設備驗收交機
2009 – 順利通過OHSAS 18001、TOSHMS認證
     – 因產能滿載，故新增兩臺超大型機臺設備
     – 成功的開發(fā)CIGS PVD及 a-Si PECVD 鍍膜系統(tǒng)
     – 成功開發(fā)TCO Turn-Key 技術
2010 – 與日本Core Technology結盟，并成功開發(fā)60MHz VHF微晶矽高效率 PECVD系統(tǒng)與技術
     – 獲臺灣半導體大廠的CIGS之PVD與MOCVD機臺訂單
     – 現(xiàn)增完成至資本額7.13億，擴建新廠， 2011年Q2啟用
2011 – 與日本Core Technology共同成功開發(fā)LPCVD系統(tǒng)
     – 辦理現(xiàn)金增資至11.5億
     – 與美國IBM簽訂高效率矽薄膜太陽能技術移轉