4.3 光刻膠要求

所屬欄目:先進材料化學(xué)

對于給定的刻蝕工藝要仔細選擇化學(xué)性能滿足要求的光刻膠。盡管根據(jù)光源、過程設(shè)備需求和曝光工具不同這些要求有所不同,但是有一些基本原則是相同的:敏感度、對比度、分辨率、抗蝕性、純度和加工性能[8]。這些性能可以通過 ......(本文共 511 字 )     [閱讀本文] >>


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