所屬欄目:電子衍襯
位錯(cuò)(Dislocation)的概念是1934年泰勒(G.I.Taylor)等[11]最早為解釋材料的實(shí)驗(yàn)強(qiáng)度和理論強(qiáng)度之間的巨大差異而提出來的。直到22年后的1956年前后,才由博爾曼(W.Bollman)、赫爾什(P.B.Hirsch)和門特(J.W.Menter)等的著名實(shí)驗(yàn)直接觀察到這種缺陷。 ......(本文共 889 字 ) [閱讀本文] >>