磁流變拋光流場對光學(xué)元件凹面的壓力形成機制研究

摘要： 壓力場的大小受到光學(xué)元件的凹面形狀及面積大小的影響。為了研究凹面的壓力場形成，首先建立拋光的光學(xué)元件模型，對凹面的壓力進(jìn)行計算分析；其次通過改變光學(xué)元件凹面的曲率半徑大小、改變拋光輪的轉(zhuǎn)速、改變相同曲率半徑的光學(xué)元件浸入磁流變液中的角度，進(jìn)行凹面壓力計算。分析發(fā)現(xiàn)，曲率半徑對凹面的壓力影響不大，不同曲率半徑的凹面在磁流變拋光流場中的壓力分布類型相似；凹面的壓力變化趨勢先平緩減小... （共7頁）