基于干涉條紋成像的測(cè)角系統(tǒng)設(shè)計(jì)及其離軸測(cè)量精度

摘要： 基于干涉條紋成像的測(cè)角系統(tǒng)測(cè)量精度隨著測(cè)量范圍的增大而下降，單純提高精定位的細(xì)分倍數(shù)并不能提高測(cè)量精度。針對(duì)這一問題，本文圍繞非成像系統(tǒng)的參數(shù)設(shè)計(jì)方法及大測(cè)量范圍下的精度變化情況展開研究。建立了雙光柵干涉系統(tǒng)及光楔陣列波前分割的數(shù)學(xué)模型，給出了近軸條件下非成像光學(xué)系統(tǒng)的參數(shù)設(shè)計(jì)方法。設(shè)計(jì)了一臺(tái)一維高精度光學(xué)測(cè)角系統(tǒng)，并對(duì)該系統(tǒng)在整個(gè)測(cè)角范圍內(nèi)的測(cè)量誤差進(jìn)行了分析和計(jì)算。結(jié)果顯示... （共11頁）