基于Geant4的68Ge校正源活度均勻性檢測裝置模擬研究
核電子學(xué)與探測技術(shù)
頁數(shù): 7 2024-07-10
摘要: 68 Ge是一種被廣泛用于正電子發(fā)射斷層成像(PET)矯正的放射源,根據(jù)其制備工藝,通常是將環(huán)氧樹脂與
68 Ge溶液混合均勻澆注到外殼中固化制成校正源,對校正源活度的均勻性要求要小于±5%。為了檢測
68 Ge校正源的均勻性,本文基于Geant4建立了活度均勻性分析檢測裝置的仿真模型,模擬了屏蔽體采用不同材料時的屏蔽效果,給出了屏蔽體厚度對射線通過率的影響;探究... (共7頁)