光柵干涉精密納米測量技術

摘要： 光柵干涉測量是一種重要的精密納米測量技術，具有高分辨率、高抗干擾能力和多自由度擴展的優(yōu)勢，在先進節(jié)點光刻機、超精密機床等場景中發(fā)揮著至關重要的作用。對比介紹了光柵干涉、激光干涉與時柵測量技術，明確其應用場景和當前性能參數，闡述了光柵干涉測量中的零差和外差兩種技術原理，并在此基礎上分析了光柵干涉儀的國內外發(fā)展動態(tài)，包括代表性的設備廠商，和近年來國內外在納米及亞納米精度的單、多自由... （共21頁）