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立式霧化輔助CVD系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)

微納電子技術(shù) 頁數(shù)： 6 2025-01-14
摘要： 霧化輔助化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)是一種高質(zhì)量氧化物薄膜的低成本制備方法。設(shè)計(jì)并搭建了一套立式霧化輔助CVD系統(tǒng)，該系統(tǒng)包含了霧化源、立式反應(yīng)腔體、加熱、水冷和尾氣處理模塊。采用該系統(tǒng)制備了SnO2薄膜，采用X射線衍射儀(XRD)對薄膜樣品進(jìn)行分析，并用掃描電子顯微鏡(SEM)觀察樣品表面形貌。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明：采用所設(shè)計(jì)的立式霧化輔助CVD系統(tǒng)制備出了沿(200)晶面生長的Sn... （共6頁）

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