差分相位襯度技術(shù)解析催化劑表/界面電場潛在假象探討
高?；瘜W(xué)工程學(xué)報
頁數(shù)： 9 2024-12-15
摘要： 針對差分相位襯度技術(shù)(DPC)在解析催化劑表面電場時可能出現(xiàn)的電場不準(zhǔn)確等問題，提出電鏡像模擬的方法，對異質(zhì)界面、不規(guī)則顆粒邊緣，進(jìn)行DPC像模擬，通過DPC與電場的關(guān)系解析電場信息。隨后使用FEl-Titan Themis CubedG260-300真實拍攝參數(shù)模擬不同欠焦、像散下的顆粒邊緣和異質(zhì)界面的DPC結(jié)果。結(jié)果表明異質(zhì)原子對電子束的散射差異導(dǎo)致界面處原子電場產(chǎn)生額外的... （共9頁）
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