APP 二次發(fā)射
電子或離子以足夠大的速度轟擊物體表面而使物體表面內(nèi)的電子逸出表面的現(xiàn)象。所逸出的電子稱(chēng)為二次電子。二次電子的數(shù)目可小于也可數(shù)倍于入射電子或離子的數(shù)目，主要決定于入射電子或離子的速度、入射角和物體的性質(zhì)及其表面狀態(tài)。二次發(fā)射在*光電倍增管、超正析像管和儲(chǔ)存管中得到實(shí)際應(yīng)用。在某些電子管中，二次發(fā)射是引起負(fù)阻效應(yīng)的原因。
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二次發(fā)射
電子或離子以足夠大的速度轟擊物體表面而使物體表面內(nèi)的電子逸出表面的現(xiàn)象。所逸出的電子稱(chēng)為二次電子。二次電子的數(shù)目可小于也可數(shù)倍于入射電子或離子的數(shù)目，主要決定于入射電子或離子的速度、入射角和物體的性質(zhì)及其表面狀態(tài)。二次發(fā)射在*光電倍增管、超正析像管和儲(chǔ)存管中得到實(shí)際應(yīng)用。在某些電子管中，二次發(fā)射是引起負(fù)阻效應(yīng)的原因。
